氮化硅陶瓷在机械行业的应用由于氮化硅陶瓷具有优异的特性, 人们常常利用它来制造燃气发动机的耐高温部件化学工业中耐腐蚀部件、半导体工业中的坩埚、以及高温陶瓷轴承、高速切削工具、雷达天线罩、核反应堆的支撑、 隔离件和裂变物质的载体等。
氮化硅陶瓷物理特性Si3N4分子中Si原子和周围4个N原子以共价键结合，形成[Si-N4]四面体结构单元，所有四面体共享顶角构成三维空间网，形成Si3N4，有两种相结构，α相和β相如下图所示：其共价键长较短，成键电子数目多，原子间排列的方向性强，相邻原子间相互作用大Si3N4存在两种由[Si-N4]四面体结构以不同的堆砌方式堆砌而成的三维网络晶形，一个是α-Si3N4，另一个是β-Si3N4正是由于[Si-N4]四面体结构单元的存在，Si3N4具有较高的硬度在β-Si3N4的一个晶胞内有6个Si原子，8个N原子。其中3个Si原子和4个N原子在一个平面上，另外3个Si原子和4个N原子在高一层平面上第3层与第1层相对应，如此相应的在C轴方向按ABAB…重复排列，β-Si3N4的晶胞参数为a=0.7606nm，c=0.2909nmα-Si3N4中第3层、第4层的Si原子在平面位置上分别与第1层、第2层的Si原子错了一个位置，形成4层重复排列，即ABCDABCD…方式排列相对β-Si3N4而言,α-Si3N4晶胞参数变化不大，但在C轴方向约扩大一倍（a=0.775nm，c=0.5618），其中还含有3%的氧原子以及许多硅空位，因此体系的稳定性较差，这使α相结构的四面体晶形发生畸变，而β相在热力学上更稳定由于氧原子在α相中形成Si-O-Si离子性较强的的键，这使α相中的[Si-N4]四面体易产生取向的改变和链的伸直，原子位置发生调整，使得α相在温度达到1300℃以上时转变到β相，使其结构稳定。提升原材料的破裂能和冲击韧性是合理的方式瓷器构件中存有适当的微裂痕抵抗热震损害工作能力的提升也是有利的。氮化硅陶瓷属高温难溶化合物，无熔点，抗高温蠕变能力强，不含粘结剂的反应烧结氮化硅负荷软化点在1800℃以上。
氮化硅陶瓷化学特性氮化硅高温氧化受温度和氧分压影响根 据氧分压的不同, 可分为惰性氧化( PassiveOxida- ion)和活性氧化( Active Oxidation)两类惰性氧 化生成 iO2,试样质量增加; 活性氧化生成 3SiO2 3SiO2 3SiO( 方程式进行,活性氧化按 方程式( 进行有学者通过实验证明,氮化硅 高温氧化, i2N2 212氮化硅陶瓷在碳酸钠熔盐中的腐蚀 Schlicht ing 11]等人研究了氮化硅 陶瓷在碳酸钠中的熔盐腐蚀。
氮化硅陶瓷制作工艺流程制备工艺流程：金属氧化物的水热生成，水热生成是一种制取极细瓷器粉体设备的新技术应用，能够独立开展，还可以与临介干躁技术性融合开展粉体设备制取法国学术研究选用铝、钛食盐水热结晶体与溶胶凝胶法融合的方式 制取出高纯度平稳的铝／钛金属氧化物粉体设备日本国科技人员选用水热生成于200℃，２ＭＰａ，标准下碾磨混和制取ＢａＦｅ６Ｏ１２结晶体粉体设备，结晶体物理学1000℃锻烧后，得到具备优良带磁的ＢａＦｅ６Ｏ１２粉体设备荷兰科技人员用二种水热结晶方法制取出细微的感光Ｂｉ１２ＧｅＯ１２粉体设备，一种方式 是将铋和锗的金属氧化物在水中球磨机碾磨或金属氧化物在水中以１个大气压力的标准下加温溶解；第二种方式 制取的Ｂｉ１２ＧｅＯ２０结晶在１０～１００℃的水里产生，粉体设备颗粒物规格为５μｍ，加上酸性溶液或用开水碾磨，反应时间提升。烧结工艺流程：热等静压煅烧法是共价键化学物质最有效的煅烧方式 选用压合用的颗粒料或素坯，经封裝后放人热等静压机中，在1850℃和200MPa的工作压力下开展煅烧，进而做到高密度性和抗压强度都很高的碳碳复合材料煅烧体所选用的乐力物质为氡气或N2，其特性是坯体四周匀称加比．产品的均勾性好，能够制取样子繁杂的产品，并减少丁艺周期时间。
密度：3.1-3.3，抗弯强度：600-800MPa，颜色：黑灰色，纯度：99.9%
制造商：海合精密陶瓷，特性：耐腐蚀陶瓷，微观结构：单晶，形状：圆片
功能：定位用陶瓷，产品参数：一般级MM，价格：30元/件，产地：吉林延边州
氮化硅陶瓷的加工研磨和抛光 它是陶瓷材料精密和超精密加工的主要方法工业陶瓷通过研具和工件之间的机械摩擦或机械化学作用去除余量，它使工件表面产生微小龟裂，逐渐扩展并从母体材料上剥除，达到所要求的尺寸精度和表面粗糙度当采用细的粒度、软的研具、低的研磨压力和小的相对速度时，可获得高的表面质量和精度，但将使加工效率降低。
氮化硅陶瓷会产生哪些危害？特别注意的是，一些瓷器公司较集中化地域，要是没有搞好防污工作中，烟尘还会继续外扩散到周边城市，促使空气指数越差，给住户衣食住行造成不变，乃至对大家的身心健康导致不好危害，轻则身体不舒服，重则还将会得了呼吸道病症。
